LPCVD低压化学气相沉积系统是华鸢针对半导体行业设备和工艺要求所研发的新型系统，采用华鸢专用控制器作为通讯处理核心，采用先进的网络技术、控制技术，瞄准世界行业发展的先进水平。

        系统经过试验升级后，在性能与可靠性上处于国内领先，达到了行业控制系统的最高水平，该系统目前已经在乐山正常运行，所生产产品各项指标均优，与国内其他产品相比，在各个方面都体现了系统的先进性、稳定性和可靠性：

         1. 采用华鸢控制器做通讯，极大地提高了系统的运行速度与可靠性。

         2. 与各仪表之间采用通讯方式进行数据交互，既提高了速度，又增加了精确度，抗干扰能力强。

         3. 用PLC做IO与互锁，发挥了PLC的优点，可靠性更强。

         4. 上位机操作，无论是配方编辑还是监控，都十分简单、直观、方便，可进行灵活配置，工人简单培训即可上岗。

         5. 触摸屏包含信息更完整，便于故障排除。

         6. 上位机与触摸屏为基本冗余配置，生产控制操作可在任一设备进行。两者中任一设备故障，都不影响当前生产。